核心優勢
- 新型電感耦合技術(ICP)產生等離子體,粒子密度遠高于傳統的電容耦合技術(CCP)
- 產生的高濃度自由基可高效去除樣品表面碳氫污染物
- “DOWNSTREAM”清洗方式對樣品無損傷,保護樣品原始形貌不被破壞
- 工作氣壓范圍:0.01-500Pa,不破壞被清洗腔室的高真空
- 集成式軟件控制,一鍵點擊清洗,無需用戶過多操作
用戶界面
- 產品描述
- 用戶界面
- 性能參數
- 應用案例
-
- 商品名稱: 等離子清洗機YP-20
屹東YP-20等離子清洗機主要用于樣品清洗或真空腔體的清洗。用途非常廣泛,其可搭的配拓展設備包括但不限于:SEM、FIB、NanoProbe、TEM及其他各類真空腔體。
- 新型電感耦合技術(ICP)產生等離子體,粒子密度遠高于傳統的電容耦合技術(CCP)
- 產生的高濃度自由基可高效去除樣品表面碳氫污染物
- “DOWNSTREAM”清洗方式對樣品無損傷,保護樣品原始形貌不被破壞
- 工作氣壓范圍:0.01-500Pa,不破壞被清洗腔室的高真空
- 集成式軟件控制,一鍵點擊清洗,無需用戶過多操作
-
??????
- 直接安裝于高真空腔室的接口上無需特殊固定工具
- 可預設清洗流程,遠程操控
- 用戶友好型操作界面,內置不同種類樣品常用清洗設置
- 樣品室和樣品均可被清洗

-


等離子體源參數 控制柜參數 功率 100W 尺寸(長*寬*高) 428*290*116mm 工作氣壓 0.01-100Pa 重量 6kg 氣體種類 Air,O2,Ar 電源要求 110/220VAC,50、60Hz 射頻頻率:13.56MHz
功率消耗:220W 特征電阻:50Ω
真空接口類型 KF40 尺寸(長*寬*高) 205*104*104mm 通訊方式 以太網 重量 2kg 軟件 專用控制軟件 -
硅片樣品


清洗前:中心區域有明顯積碳
清洗后:積碳被清洗干凈
性能參數
- 產品描述
- 用戶界面
- 性能參數
- 應用案例
-
- 商品名稱: 等離子清洗機YP-20
屹東YP-20等離子清洗機主要用于樣品清洗或真空腔體的清洗。用途非常廣泛,其可搭的配拓展設備包括但不限于:SEM、FIB、NanoProbe、TEM及其他各類真空腔體。
- 新型電感耦合技術(ICP)產生等離子體,粒子密度遠高于傳統的電容耦合技術(CCP)
- 產生的高濃度自由基可高效去除樣品表面碳氫污染物
- “DOWNSTREAM”清洗方式對樣品無損傷,保護樣品原始形貌不被破壞
- 工作氣壓范圍:0.01-500Pa,不破壞被清洗腔室的高真空
- 集成式軟件控制,一鍵點擊清洗,無需用戶過多操作
-
??????
- 直接安裝于高真空腔室的接口上無需特殊固定工具
- 可預設清洗流程,遠程操控
- 用戶友好型操作界面,內置不同種類樣品常用清洗設置
- 樣品室和樣品均可被清洗

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等離子體源參數 控制柜參數 功率 100W 尺寸(長*寬*高) 428*290*116mm 工作氣壓 0.01-100Pa 重量 6kg 氣體種類 Air,O2,Ar 電源要求 110/220VAC,50、60Hz 射頻頻率:13.56MHz
功率消耗:220W 特征電阻:50Ω
真空接口類型 KF40 尺寸(長*寬*高) 205*104*104mm 通訊方式 以太網 重量 2kg 軟件 專用控制軟件 -
硅片樣品


清洗前:中心區域有明顯積碳
清洗后:積碳被清洗干凈
應用案例
- 產品描述
- 用戶界面
- 性能參數
- 應用案例
-
- 商品名稱: 等離子清洗機YP-20
屹東YP-20等離子清洗機主要用于樣品清洗或真空腔體的清洗。用途非常廣泛,其可搭的配拓展設備包括但不限于:SEM、FIB、NanoProbe、TEM及其他各類真空腔體。
- 新型電感耦合技術(ICP)產生等離子體,粒子密度遠高于傳統的電容耦合技術(CCP)
- 產生的高濃度自由基可高效去除樣品表面碳氫污染物
- “DOWNSTREAM”清洗方式對樣品無損傷,保護樣品原始形貌不被破壞
- 工作氣壓范圍:0.01-500Pa,不破壞被清洗腔室的高真空
- 集成式軟件控制,一鍵點擊清洗,無需用戶過多操作
-
??????
- 直接安裝于高真空腔室的接口上無需特殊固定工具
- 可預設清洗流程,遠程操控
- 用戶友好型操作界面,內置不同種類樣品常用清洗設置
- 樣品室和樣品均可被清洗

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等離子體源參數 控制柜參數 功率 100W 尺寸(長*寬*高) 428*290*116mm 工作氣壓 0.01-100Pa 重量 6kg 氣體種類 Air,O2,Ar 電源要求 110/220VAC,50、60Hz 射頻頻率:13.56MHz
功率消耗:220W 特征電阻:50Ω
真空接口類型 KF40 尺寸(長*寬*高) 205*104*104mm 通訊方式 以太網 重量 2kg 軟件 專用控制軟件 -
硅片樣品


清洗前:中心區域有明顯積碳
清洗后:積碳被清洗干凈