氬離子束場發射掃描電子顯微鏡ABSEM200
氬離子束場發射掃描電鏡 ABSEM 200,作為一款創新的多功能樣品制備和分析系統,突破性地將寬束氬離子槍集成于掃描電鏡的樣品室內,成功實現了離子束原位拋光以及高分辨電子束成像分析的無縫銜接,無需繁瑣的樣品轉移流程極大地提升了分析效率。 ABSEM 200 所搭載的寬離子束技術,具備強大的處理能力,能夠輕松應對毫米級的大尺寸樣品,極大地拓寬了其應用范圍。掠射角的設計可以有效降低在處理過程中對樣品造成的損傷,確保了樣品的完整性和原始狀態。納米級層切模塊能夠精準控制去層厚度,且獨有的雜屑捕獲裝置確保系統穩定運行,有效避免了雜屑對實驗的干擾和潛在風險。 ABSEM 200特別適用于環境敏感或結構復雜的樣品,為用戶提供了一種高效精確的樣品表征解決方案。ABSEM 200,成功開啟探索微觀世界的嶄新篇章!
所屬分類:
產品
掃描電子顯微鏡
核心優勢
技術原理
|
ABSEM200雙束系統將氬離子槍集成于屹東光學的場發射掃描電鏡平臺上,使寬束氬離子束以可調節的掠射角(3-9°)入射樣品表面,通過前端的單向聚焦模塊將離子束聚焦成線性束斑,提高作用于樣品表面的束流密度,使得離子束的能量能夠更加高效地作用于樣品的微觀區域。 樣品臺的擺動或旋轉,有效地降低了窗簾效應,最大程度地減少了離子束對樣品的輻照損傷。ABSEM 200還配備了高精度的擋板層切模塊,能夠根據科研人員的具體需求,精確去除樣品表面的厚度,從而獲得理想的觀察深度和高分辨率的解析度。同時,獨有的雜屑捕獲裝置可以有效收集離子束濺射中產生的各類污染物質,確保了系統運行環境的清潔與穩定。 拋光過程結束后,無需樣品轉移,可直接對暴露出的樣品表面進行高分辨掃描成像,獲得樣品表面的微觀形貌和結構信息。
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產品優勢

用戶界面
- 產品描述
- 用戶界面
- 性能參數
- 應用案例
-
- 商品名稱: 氬離子束場發射掃描電子顯微鏡ABSEM200
氬離子束場發射掃描電鏡 ABSEM 200,作為一款創新的多功能樣品制備和分析系統,突破性地將寬束氬離子槍集成于掃描電鏡的樣品室內,成功實現了離子束原位拋光以及高分辨電子束成像分析的無縫銜接,無需繁瑣的樣品轉移流程極大地提升了分析效率。 ABSEM 200 所搭載的寬離子束技術,具備強大的處理能力,能夠輕松應對毫米級的大尺寸樣品,極大地拓寬了其應用范圍。掠射角的設計可以有效降低在處理過程中對樣品造成的損傷,確保了樣品的完整性和原始狀態。納米級層切模塊能夠精準控制去層厚度,且獨有的雜屑捕獲裝置確保系統穩定運行,有效避免了雜屑對實驗的干擾和潛在風險。 ABSEM 200特別適用于環境敏感或結構復雜的樣品,為用戶提供了一種高效精確的樣品表征解決方案。ABSEM 200,成功開啟探索微觀世界的嶄新篇章!
技術原理
ABSEM200雙束系統將氬離子槍集成于屹東光學的場發射掃描電鏡平臺上,使寬束氬離子束以可調節的掠射角(3-9°)入射樣品表面,通過前端的單向聚焦模塊將離子束聚焦成線性束斑,提高作用于樣品表面的束流密度,使得離子束的能量能夠更加高效地作用于樣品的微觀區域。
樣品臺的擺動或旋轉,有效地降低了窗簾效應,最大程度地減少了離子束對樣品的輻照損傷。ABSEM 200還配備了高精度的擋板層切模塊,能夠根據科研人員的具體需求,精確去除樣品表面的厚度,從而獲得理想的觀察深度和高分辨率的解析度。同時,獨有的雜屑捕獲裝置可以有效收集離子束濺射中產生的各類污染物質,確保了系統運行環境的清潔與穩定。
拋光過程結束后,無需樣品轉移,可直接對暴露出的樣品表面進行高分辨掃描成像,獲得樣品表面的微觀形貌和結構信息。

產品優勢

-
· 界面布局清晰簡練
· 人體工學鍵盤設計
· 配備多種安全互鎖
· 操作簡捷流暢

-
離子光學系統
離子束能量范圍 0.5kV-5kV 離子束束流 10-500μA 束斑直徑 0.3-10mm 氣體類型 氬氣 常用工作氣壓 5e-5mbar 入射角度 3-9° 離子束加工樣品尺寸和要求 樣品尺寸 ≤12mmx12mmx5mm 樣品重量 ≤300g 層切范圍 ≤200μm 層切步進 ≥8nm 電子光學系統 電子槍類型 高亮度肖特基場發射電子槍 加速電壓 0.02-30kV 電子束流 1pA-20nA(100nA選配) 放大倍率 1-2,000,000x 分辨率 1.0nm@15kV(SE),1.5nm@1kV(SE) 探測器 標配 樣品室內二次電子探測器 鏡筒內二次電子探測器 選配 標準背散射電子探測器 低壓背散射電子探測器 樣品室 倉室 內徑340mm,高度260mm 全自動雜屑捕獲裝置 多附件接口,可加裝EBSD、EDS、等離子清洗機等多種附件 樣品臺 五軸全自動樣品臺 X、Y=125mm,Z=50mm,R=360°連續,T=-5~70° 影像系統 光學導航、樣品室內監控、氬離子束監控 軟件及圖像處理 語言 中文/英文,可定制其它語言 操作系統 Windows 圖像分辨率 512*512-16k*16k 自動功能 自動聚焦、自動亮度對比度等 參數推薦 預設常用材料拋光參數 其它功能 分屏顯示、圖像注釋和測量、圖像混合、大面積圖像采集和拼接等 -
能源電池領域
石墨極片 三元鋰極片 磷酸鐵鋰極片
離子束
拋光前



離子束
拋光后



上圖為機械剪切后的二次電子圖像,可以看到由于剪切力的影響,層次不夠分明,無法進行精確測量,獲取有效的信息;下圖為ABSEM200拋光后的背散射電子圖像,可精確測量顆粒尺寸等信息,對界面結構和成分進行詳細的研究。
上圖為三元鋰極片的二次電子圖像,
下圖為ABSEM200拋光后的背散射電子圖像。
上圖為三元鋰極片的二次電子圖像,
下圖為ABSEM200拋光后的背散射電子圖像。
巖石地質領域
油頁巖 離子束
拋光后



離子束拋光前,由于油頁巖成分的硬度不同,表面質量不夠好,無法獲取有效的結構信息。借助ABSEM200拋光后可獲得平整的表面,暴露出更多的細節信息,如碳酸鹽、硅酸鹽、黃鐵礦、有機孔等有機物的分布。
金屬材料領域
金屬鉬 機械拋光后

離子束拋光后

EBSD圖像 
機械拋光后,樣品表面有很多細小的劃痕;借助ABSEM200對金屬鉬拋光后,對其進行背散射電子成像,可看到材料中晶體取向存在差異;拋光后的金屬鉬可借助電子通道襯度直觀的觀察到不同晶體取向的晶粒的邊界,便于對晶粒大小和取向進行統計。
生命科學領域
小鼠大腦皮層 
借助ABSEM200對大尺度(x:5.5 mm, y: 1.9mm)的小鼠腦組織樣品進行表面拋光,可獲得平整的表面。并對拋光后不同區域進行低壓背散射電子成像,均可看到無離子損傷的神經組織的超微結構信息。
*樣品來源于中國科學院蘇州生物醫學工程研究所張若冰教授 斑馬魚幼蟲軀干 
借助ABSEM 200對完整斑馬魚軀干進行連續層切,再利用低壓BSD對其進行成像,能夠獲得具有良好襯度、高分辨率以及較大視野的圖像。通過半自動采集的多張連續圖像,可實現對完整細胞結構的分析。
*樣品來源于東南大學Prof. Manfred Auer
性能參數
- 產品描述
- 用戶界面
- 性能參數
- 應用案例
-
- 商品名稱: 氬離子束場發射掃描電子顯微鏡ABSEM200
氬離子束場發射掃描電鏡 ABSEM 200,作為一款創新的多功能樣品制備和分析系統,突破性地將寬束氬離子槍集成于掃描電鏡的樣品室內,成功實現了離子束原位拋光以及高分辨電子束成像分析的無縫銜接,無需繁瑣的樣品轉移流程極大地提升了分析效率。 ABSEM 200 所搭載的寬離子束技術,具備強大的處理能力,能夠輕松應對毫米級的大尺寸樣品,極大地拓寬了其應用范圍。掠射角的設計可以有效降低在處理過程中對樣品造成的損傷,確保了樣品的完整性和原始狀態。納米級層切模塊能夠精準控制去層厚度,且獨有的雜屑捕獲裝置確保系統穩定運行,有效避免了雜屑對實驗的干擾和潛在風險。 ABSEM 200特別適用于環境敏感或結構復雜的樣品,為用戶提供了一種高效精確的樣品表征解決方案。ABSEM 200,成功開啟探索微觀世界的嶄新篇章!
技術原理
ABSEM200雙束系統將氬離子槍集成于屹東光學的場發射掃描電鏡平臺上,使寬束氬離子束以可調節的掠射角(3-9°)入射樣品表面,通過前端的單向聚焦模塊將離子束聚焦成線性束斑,提高作用于樣品表面的束流密度,使得離子束的能量能夠更加高效地作用于樣品的微觀區域。
樣品臺的擺動或旋轉,有效地降低了窗簾效應,最大程度地減少了離子束對樣品的輻照損傷。ABSEM 200還配備了高精度的擋板層切模塊,能夠根據科研人員的具體需求,精確去除樣品表面的厚度,從而獲得理想的觀察深度和高分辨率的解析度。同時,獨有的雜屑捕獲裝置可以有效收集離子束濺射中產生的各類污染物質,確保了系統運行環境的清潔與穩定。
拋光過程結束后,無需樣品轉移,可直接對暴露出的樣品表面進行高分辨掃描成像,獲得樣品表面的微觀形貌和結構信息。

產品優勢

-
· 界面布局清晰簡練
· 人體工學鍵盤設計
· 配備多種安全互鎖
· 操作簡捷流暢

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離子光學系統
離子束能量范圍 0.5kV-5kV 離子束束流 10-500μA 束斑直徑 0.3-10mm 氣體類型 氬氣 常用工作氣壓 5e-5mbar 入射角度 3-9° 離子束加工樣品尺寸和要求 樣品尺寸 ≤12mmx12mmx5mm 樣品重量 ≤300g 層切范圍 ≤200μm 層切步進 ≥8nm 電子光學系統 電子槍類型 高亮度肖特基場發射電子槍 加速電壓 0.02-30kV 電子束流 1pA-20nA(100nA選配) 放大倍率 1-2,000,000x 分辨率 1.0nm@15kV(SE),1.5nm@1kV(SE) 探測器 標配 樣品室內二次電子探測器 鏡筒內二次電子探測器 選配 標準背散射電子探測器 低壓背散射電子探測器 樣品室 倉室 內徑340mm,高度260mm 全自動雜屑捕獲裝置 多附件接口,可加裝EBSD、EDS、等離子清洗機等多種附件 樣品臺 五軸全自動樣品臺 X、Y=125mm,Z=50mm,R=360°連續,T=-5~70° 影像系統 光學導航、樣品室內監控、氬離子束監控 軟件及圖像處理 語言 中文/英文,可定制其它語言 操作系統 Windows 圖像分辨率 512*512-16k*16k 自動功能 自動聚焦、自動亮度對比度等 參數推薦 預設常用材料拋光參數 其它功能 分屏顯示、圖像注釋和測量、圖像混合、大面積圖像采集和拼接等 -
能源電池領域
石墨極片 三元鋰極片 磷酸鐵鋰極片
離子束
拋光前



離子束
拋光后



上圖為機械剪切后的二次電子圖像,可以看到由于剪切力的影響,層次不夠分明,無法進行精確測量,獲取有效的信息;下圖為ABSEM200拋光后的背散射電子圖像,可精確測量顆粒尺寸等信息,對界面結構和成分進行詳細的研究。
上圖為三元鋰極片的二次電子圖像,
下圖為ABSEM200拋光后的背散射電子圖像。
上圖為三元鋰極片的二次電子圖像,
下圖為ABSEM200拋光后的背散射電子圖像。
巖石地質領域
油頁巖 離子束
拋光后



離子束拋光前,由于油頁巖成分的硬度不同,表面質量不夠好,無法獲取有效的結構信息。借助ABSEM200拋光后可獲得平整的表面,暴露出更多的細節信息,如碳酸鹽、硅酸鹽、黃鐵礦、有機孔等有機物的分布。
金屬材料領域
金屬鉬 機械拋光后

離子束拋光后

EBSD圖像 
機械拋光后,樣品表面有很多細小的劃痕;借助ABSEM200對金屬鉬拋光后,對其進行背散射電子成像,可看到材料中晶體取向存在差異;拋光后的金屬鉬可借助電子通道襯度直觀的觀察到不同晶體取向的晶粒的邊界,便于對晶粒大小和取向進行統計。
生命科學領域
小鼠大腦皮層 
借助ABSEM200對大尺度(x:5.5 mm, y: 1.9mm)的小鼠腦組織樣品進行表面拋光,可獲得平整的表面。并對拋光后不同區域進行低壓背散射電子成像,均可看到無離子損傷的神經組織的超微結構信息。
*樣品來源于中國科學院蘇州生物醫學工程研究所張若冰教授 斑馬魚幼蟲軀干 
借助ABSEM 200對完整斑馬魚軀干進行連續層切,再利用低壓BSD對其進行成像,能夠獲得具有良好襯度、高分辨率以及較大視野的圖像。通過半自動采集的多張連續圖像,可實現對完整細胞結構的分析。
*樣品來源于東南大學Prof. Manfred Auer
應用案例
- 產品描述
- 用戶界面
- 性能參數
- 應用案例
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- 商品名稱: 氬離子束場發射掃描電子顯微鏡ABSEM200
氬離子束場發射掃描電鏡 ABSEM 200,作為一款創新的多功能樣品制備和分析系統,突破性地將寬束氬離子槍集成于掃描電鏡的樣品室內,成功實現了離子束原位拋光以及高分辨電子束成像分析的無縫銜接,無需繁瑣的樣品轉移流程極大地提升了分析效率。 ABSEM 200 所搭載的寬離子束技術,具備強大的處理能力,能夠輕松應對毫米級的大尺寸樣品,極大地拓寬了其應用范圍。掠射角的設計可以有效降低在處理過程中對樣品造成的損傷,確保了樣品的完整性和原始狀態。納米級層切模塊能夠精準控制去層厚度,且獨有的雜屑捕獲裝置確保系統穩定運行,有效避免了雜屑對實驗的干擾和潛在風險。 ABSEM 200特別適用于環境敏感或結構復雜的樣品,為用戶提供了一種高效精確的樣品表征解決方案。ABSEM 200,成功開啟探索微觀世界的嶄新篇章!
技術原理
ABSEM200雙束系統將氬離子槍集成于屹東光學的場發射掃描電鏡平臺上,使寬束氬離子束以可調節的掠射角(3-9°)入射樣品表面,通過前端的單向聚焦模塊將離子束聚焦成線性束斑,提高作用于樣品表面的束流密度,使得離子束的能量能夠更加高效地作用于樣品的微觀區域。
樣品臺的擺動或旋轉,有效地降低了窗簾效應,最大程度地減少了離子束對樣品的輻照損傷。ABSEM 200還配備了高精度的擋板層切模塊,能夠根據科研人員的具體需求,精確去除樣品表面的厚度,從而獲得理想的觀察深度和高分辨率的解析度。同時,獨有的雜屑捕獲裝置可以有效收集離子束濺射中產生的各類污染物質,確保了系統運行環境的清潔與穩定。
拋光過程結束后,無需樣品轉移,可直接對暴露出的樣品表面進行高分辨掃描成像,獲得樣品表面的微觀形貌和結構信息。

產品優勢

-
· 界面布局清晰簡練
· 人體工學鍵盤設計
· 配備多種安全互鎖
· 操作簡捷流暢

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離子光學系統
離子束能量范圍 0.5kV-5kV 離子束束流 10-500μA 束斑直徑 0.3-10mm 氣體類型 氬氣 常用工作氣壓 5e-5mbar 入射角度 3-9° 離子束加工樣品尺寸和要求 樣品尺寸 ≤12mmx12mmx5mm 樣品重量 ≤300g 層切范圍 ≤200μm 層切步進 ≥8nm 電子光學系統 電子槍類型 高亮度肖特基場發射電子槍 加速電壓 0.02-30kV 電子束流 1pA-20nA(100nA選配) 放大倍率 1-2,000,000x 分辨率 1.0nm@15kV(SE),1.5nm@1kV(SE) 探測器 標配 樣品室內二次電子探測器 鏡筒內二次電子探測器 選配 標準背散射電子探測器 低壓背散射電子探測器 樣品室 倉室 內徑340mm,高度260mm 全自動雜屑捕獲裝置 多附件接口,可加裝EBSD、EDS、等離子清洗機等多種附件 樣品臺 五軸全自動樣品臺 X、Y=125mm,Z=50mm,R=360°連續,T=-5~70° 影像系統 光學導航、樣品室內監控、氬離子束監控 軟件及圖像處理 語言 中文/英文,可定制其它語言 操作系統 Windows 圖像分辨率 512*512-16k*16k 自動功能 自動聚焦、自動亮度對比度等 參數推薦 預設常用材料拋光參數 其它功能 分屏顯示、圖像注釋和測量、圖像混合、大面積圖像采集和拼接等 -
能源電池領域
石墨極片 三元鋰極片 磷酸鐵鋰極片
離子束
拋光前



離子束
拋光后



上圖為機械剪切后的二次電子圖像,可以看到由于剪切力的影響,層次不夠分明,無法進行精確測量,獲取有效的信息;下圖為ABSEM200拋光后的背散射電子圖像,可精確測量顆粒尺寸等信息,對界面結構和成分進行詳細的研究。
上圖為三元鋰極片的二次電子圖像,
下圖為ABSEM200拋光后的背散射電子圖像。
上圖為三元鋰極片的二次電子圖像,
下圖為ABSEM200拋光后的背散射電子圖像。
巖石地質領域
油頁巖 離子束
拋光后



離子束拋光前,由于油頁巖成分的硬度不同,表面質量不夠好,無法獲取有效的結構信息。借助ABSEM200拋光后可獲得平整的表面,暴露出更多的細節信息,如碳酸鹽、硅酸鹽、黃鐵礦、有機孔等有機物的分布。
金屬材料領域
金屬鉬 機械拋光后

離子束拋光后

EBSD圖像 
機械拋光后,樣品表面有很多細小的劃痕;借助ABSEM200對金屬鉬拋光后,對其進行背散射電子成像,可看到材料中晶體取向存在差異;拋光后的金屬鉬可借助電子通道襯度直觀的觀察到不同晶體取向的晶粒的邊界,便于對晶粒大小和取向進行統計。
生命科學領域
小鼠大腦皮層 
借助ABSEM200對大尺度(x:5.5 mm, y: 1.9mm)的小鼠腦組織樣品進行表面拋光,可獲得平整的表面。并對拋光后不同區域進行低壓背散射電子成像,均可看到無離子損傷的神經組織的超微結構信息。
*樣品來源于中國科學院蘇州生物醫學工程研究所張若冰教授 斑馬魚幼蟲軀干 
借助ABSEM 200對完整斑馬魚軀干進行連續層切,再利用低壓BSD對其進行成像,能夠獲得具有良好襯度、高分辨率以及較大視野的圖像。通過半自動采集的多張連續圖像,可實現對完整細胞結構的分析。
*樣品來源于東南大學Prof. Manfred Auer