核心優勢
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用戶界面
- 產品描述
- 用戶界面
- 性能參數
- 應用案例
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- 商品名稱: 三合一多功能樣品清洗機MC-4
MC-4 多功能電鏡樣品清洗機集Downstream等離子體清洗、紫外輻照、加熱真空脫附三種清洗模式于一體，適用于掃描電鏡、聚焦離子束顯微鏡、透射電鏡等樣品清洗。
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- 集Downstream等離子體清洗、紫外輻照、加熱真空脫附三種清洗模式于一體，隨時切換
- 適用于各種掃描電鏡、聚焦離子束顯微鏡、透射電鏡樣品清洗
- 高分辨觸屏操作、支持WiFi環境下遠程控制
- 可作為恒溫真空樣品儲存柜
- 采用特殊設計，實現掃描電鏡和透射電鏡兩類儀器樣品的高效清洗
- 樣品室預留專用接口，方便透射電鏡樣品桿接入
- 可選配桿泵存儲功能
-
- 用戶界面簡潔，設備使用高效
- 工作時顯示設備關鍵參數，全過程可控
- 模塊化設計，功能模式切換快捷
- 維護簡單，無需特殊保養
-
儀器整體參數 設備整體尺寸（長*寬*高） 475*345*340mm 重量 30kg 樣品室尺寸（長*寬*高） 120*120*150mm 觸摸屏尺寸 9寸 整機功率 最大500W 等離子清洗工作參數 清洗功率 100W 工作真空 ＜80Pa 射頻頻率 13.56MHz 紫外輻照工作參數 輻照功率 最大50W 工作真空 5*104Pa 加熱真空脫附工作參數 最高加熱溫度 150℃ 控溫精度 1℃ 加熱功率 最大250W -
1、等離子清洗
- 新型電感耦合等離子源(ICP)，粒子密度遠高于傳統的電容耦合技術(CCP)
- 產生高濃度氧自由基，高效去除樣品表面碳氫污染物
- “Downstream”清洗方式，樣品表面無損清洗，最大程度保持樣品表面原始形貌
金顆粒標樣
清洗前：中心區域有明顯積碳
清洗后：積碳被清洗干凈
2、紫外清洗
- 兩種特殊波段紫外光同時輻照樣品室
- 樣品室內產生高濃度高活性氧自由基
- 表面污染物和氧自由基反應分解去除
硅片樣品
清洗前：中心區域有明顯積碳 清洗后：積碳被清洗干凈 3、加熱清洗
- 樣品室升溫迅速，最高可加熱至150°C
- 高精度溫控，溫度精度控制在±1°C
- 搭配真空泵抽真空，可使樣品表面污染物快速揮發去除
鐵鉑納米顆粒樣品（有機溶劑超聲分散處理）
清洗前，顆粒周圍包裹有機溶劑，成像時邊界模糊 清洗后，顆粒周圍有機溶劑去除，成像清晰度明顯提升
性能參數
- 產品描述
- 用戶界面
- 性能參數
- 應用案例
-
- 商品名稱: 三合一多功能樣品清洗機MC-4
MC-4 多功能電鏡樣品清洗機集Downstream等離子體清洗、紫外輻照、加熱真空脫附三種清洗模式于一體，適用于掃描電鏡、聚焦離子束顯微鏡、透射電鏡等樣品清洗。
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- 集Downstream等離子體清洗、紫外輻照、加熱真空脫附三種清洗模式于一體，隨時切換
- 適用于各種掃描電鏡、聚焦離子束顯微鏡、透射電鏡樣品清洗
- 高分辨觸屏操作、支持WiFi環境下遠程控制
- 可作為恒溫真空樣品儲存柜
- 采用特殊設計，實現掃描電鏡和透射電鏡兩類儀器樣品的高效清洗
- 樣品室預留專用接口，方便透射電鏡樣品桿接入
- 可選配桿泵存儲功能
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- 用戶界面簡潔，設備使用高效
- 工作時顯示設備關鍵參數，全過程可控
- 模塊化設計，功能模式切換快捷
- 維護簡單，無需特殊保養
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儀器整體參數 設備整體尺寸（長*寬*高） 475*345*340mm 重量 30kg 樣品室尺寸（長*寬*高） 120*120*150mm 觸摸屏尺寸 9寸 整機功率 最大500W 等離子清洗工作參數 清洗功率 100W 工作真空 ＜80Pa 射頻頻率 13.56MHz 紫外輻照工作參數 輻照功率 最大50W 工作真空 5*104Pa 加熱真空脫附工作參數 最高加熱溫度 150℃ 控溫精度 1℃ 加熱功率 最大250W -
1、等離子清洗
- 新型電感耦合等離子源(ICP)，粒子密度遠高于傳統的電容耦合技術(CCP)
- 產生高濃度氧自由基，高效去除樣品表面碳氫污染物
- “Downstream”清洗方式，樣品表面無損清洗，最大程度保持樣品表面原始形貌
金顆粒標樣
清洗前：中心區域有明顯積碳
清洗后：積碳被清洗干凈
2、紫外清洗
- 兩種特殊波段紫外光同時輻照樣品室
- 樣品室內產生高濃度高活性氧自由基
- 表面污染物和氧自由基反應分解去除
硅片樣品
清洗前：中心區域有明顯積碳 清洗后：積碳被清洗干凈 3、加熱清洗
- 樣品室升溫迅速，最高可加熱至150°C
- 高精度溫控，溫度精度控制在±1°C
- 搭配真空泵抽真空，可使樣品表面污染物快速揮發去除
鐵鉑納米顆粒樣品（有機溶劑超聲分散處理）
清洗前，顆粒周圍包裹有機溶劑，成像時邊界模糊 清洗后，顆粒周圍有機溶劑去除，成像清晰度明顯提升
應用案例
- 產品描述
- 用戶界面
- 性能參數
- 應用案例
-
- 商品名稱: 三合一多功能樣品清洗機MC-4
MC-4 多功能電鏡樣品清洗機集Downstream等離子體清洗、紫外輻照、加熱真空脫附三種清洗模式于一體，適用于掃描電鏡、聚焦離子束顯微鏡、透射電鏡等樣品清洗。
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- 集Downstream等離子體清洗、紫外輻照、加熱真空脫附三種清洗模式于一體，隨時切換
- 適用于各種掃描電鏡、聚焦離子束顯微鏡、透射電鏡樣品清洗
- 高分辨觸屏操作、支持WiFi環境下遠程控制
- 可作為恒溫真空樣品儲存柜
- 采用特殊設計，實現掃描電鏡和透射電鏡兩類儀器樣品的高效清洗
- 樣品室預留專用接口，方便透射電鏡樣品桿接入
- 可選配桿泵存儲功能
-
- 用戶界面簡潔，設備使用高效
- 工作時顯示設備關鍵參數，全過程可控
- 模塊化設計，功能模式切換快捷
- 維護簡單，無需特殊保養
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儀器整體參數 設備整體尺寸（長*寬*高） 475*345*340mm 重量 30kg 樣品室尺寸（長*寬*高） 120*120*150mm 觸摸屏尺寸 9寸 整機功率 最大500W 等離子清洗工作參數 清洗功率 100W 工作真空 ＜80Pa 射頻頻率 13.56MHz 紫外輻照工作參數 輻照功率 最大50W 工作真空 5*104Pa 加熱真空脫附工作參數 最高加熱溫度 150℃ 控溫精度 1℃ 加熱功率 最大250W -
1、等離子清洗
- 新型電感耦合等離子源(ICP)，粒子密度遠高于傳統的電容耦合技術(CCP)
- 產生高濃度氧自由基，高效去除樣品表面碳氫污染物
- “Downstream”清洗方式，樣品表面無損清洗，最大程度保持樣品表面原始形貌
金顆粒標樣
清洗前：中心區域有明顯積碳
清洗后：積碳被清洗干凈
2、紫外清洗
- 兩種特殊波段紫外光同時輻照樣品室
- 樣品室內產生高濃度高活性氧自由基
- 表面污染物和氧自由基反應分解去除
硅片樣品
清洗前：中心區域有明顯積碳 清洗后：積碳被清洗干凈 3、加熱清洗
- 樣品室升溫迅速，最高可加熱至150°C
- 高精度溫控，溫度精度控制在±1°C
- 搭配真空泵抽真空，可使樣品表面污染物快速揮發去除
鐵鉑納米顆粒樣品（有機溶劑超聲分散處理）
清洗前，顆粒周圍包裹有機溶劑，成像時邊界模糊 清洗后，顆粒周圍有機溶劑去除，成像清晰度明顯提升